Metrika članka

  • citati u SCindeksu: [4]
  • citati u CrossRef-u:0
  • citati u Google Scholaru:[=>]
  • posete u poslednjih 30 dana:4
  • preuzimanja u poslednjih 30 dana:0
članak: 9 od 34  
Back povratak na rezultate
Zaštita materijala
2012, vol. 53, br. 1, str. 29-32
jezik rada: engleski
vrsta rada: naučni članak
objavljeno: 22/03/2013
Ispitivanje inhibitorskih svojstva derivata tiazola na koroziju bakra
aUniverzitet u Novom Sadu, Prirodno-matematički fakultet
bHAS, Chemical Research Center, Budapest, Hungary

Sažetak

Ispitivana je inhibitorska efikasnost odabranih derivata tiazola u odnosu na koroziju bakra u kiseloj sredini snimanjem polarizacionih krivi i impedansnim merenjima. Određivana je zaštitna sposobnost sledećih organskim molekula: 5-benziliden-2,4-dioksotetrahidro-1,3-tiazol (5-BDT), 5-(4'-izopropilbenziliden)- 2,4-dioksotetrahidro-1,3-tiazol (5-IPBDT), 5-(3'-teniliden)-2,4-dioksotetrahidro-1,3-tiazol (5-TDT) i 5-(3',4'-dimetoksibenziliden)-2,4-dioksotetrahidro-1,3-tiazol (5-MBDT) u 0,1mol/dm-3 rastvoru Na2SO4 pri pH=2,95. Polarizaciona merenja ukazuju da svi ispitivani derivati tiazola smanjuju brzinu redukcije kiseonika, delujući kao katodni inhibitori korozije bakra kiselom u 0,1mol dm-3 rastvoru Na2SO4. U ispitivanom opsegu, koncentracija od 0,01 mmoldm-3 ima najveću inhibitorsku efikasnost kod svih ispitivanih derivata. Najbolja zaštita uočena je kod 5-IPBDT derivata. Merenja impedanse pokazuju da ispitivana jedinjenja formiraju film na površini bakarne elektrode koji je sposoban da štiti bakar od korozije u kiseloj sredini. 5-IPBDT derivat jedino formira dovoljno kompaktan film, koji može da štiti bakar od korozije u dužem vremenskom periodu.

Ključne reči

Reference

= BRISATI S.A.Abd El-Maksoud, 49, 2 (2008) 3
Antonijević, M.M., Radovanović, M.B. (2010) Methods for characterization of protective films on the copper surface: A review. Zaštita materijala, 51(2): 111-122
Avramović, Z., Antonijević, M. (2011) Elektrohemijsko ponašanje mesinga u kiselom rastvoru hlorida - efekat organskih inhibitora. Zaštita materijala, vol. 52, br. 4, str. 257-263
Boukamp, B. (1993) Equivalent Circuit (EQUIVRT). version 4. 51
Feng, Y., Siow, K.S., Teo, W.K., Tan, K.L., Hsieh, A.K. (1997) Corrosion mechanisms and products of copper in aqueous solutions at various pH values. Corrosion, 53(5), 389-398
Folquer, M.E., Ribotta, S.B., Real, S.G., Gassa, L.M. (2002) Study of Copper Dissolution and Passivation Processes by Electrochemical Impedance Spectroscopy. Corrosion, 58(3): 240-247
Jović, V.D., Jović, B.M. (2001) Taloženje kadmijuma iz rastvora hlorida na Cu(111) i Cu(110) pri potencijalima pozitivnijim od ravnotežnog. Journal of the Serbian Chemical Society, vol. 66, br. 5, str. 345-357
Metikoš-Huković, M., Babić, R., Paić, I. (2000) Journal of Applied Electrochemistry, 30(5): 617-624
Milić, S.M., Antonijević, M.M. (2008) Zaštita materijala, =49(4) 33-44
Moreira, A.H., Benedetti, A.V., Cabot, P.L., Sumodjo, P.T.A. (1993) Electrochemical behaviour of copper electrode in concentrated sulfuric acid solutions. Electrochimica Acta, 38(7): 981
Otsuka, R., Uda, M. (1969) Cathodic corrosion of Cu in H2SO4. Corrosion Science, 9(9): 703-IN27
Vastag, G., Szőcs, E., Shaban, A., Bertóti, I., Popov-Pergal, K., Kálmán, E. (2001) Adsorption and corrosion protection behavior of thiazole derivatives on copper surfaces. Solid State Ionics, 141-142: 87-91
Vastag, Gy., Szocs, E., Shaban, A., Kalman, E. (2001) New inhibitors for copper corrosion. Pure and Applied Chemistry, 73(12), 1861-1869
Wong, D.K.Y., Coller, B.A.W., MacFarlane, D.R. (1993) A kinetic model for the dissolution mechanism of copper in acidic sulfate solutions. Electrochimica Acta, 38(14), 2121-7